彭博社：中国在DUV（深紫外光刻）芯片制造方面的进展，正在对大型科技公司形成竞争压力。
内容摘要
上海一家具有国有背景的企业据称已掌握了制造浸没式深紫外光刻机的技术，这种设备可用于生产大多数主流芯片，这或许意味着中国在半导体设备领域取得了重要突破。如果能够实现大规模生产，将对荷兰的ASML以及英伟达等西方芯片制造商形成双重挑战。 https://www.bloomberg.com/news/articles/2026-07-28/china-duv-chipmaking-how-machine-advances-could-reduce-reliance-on-asml-nvidia 来源：彭博社
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