HC电新 -赛伍技术：BC光转膜放量在即，专利壁垒构筑差异化优势，2027年拐点值得重视

HC电新 -赛伍技术：BC光转膜放量在即，专利壁垒构筑差异化优势，2027年拐点值得重视 BC技术升级驱动光转膜需求，2027年有望迎来产品结构改善。BC组件对衰减控制及海外质量标准提升，光转膜应用需…