中国DUV芯片制造进展威胁科技巨头——彭博社
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中国DUV芯片制造进展威胁科技巨头——彭博社 中国半导体行业可能在长期以来由荷兰ASML主导的芯片制造设备领域取得突破。据《The Information》报道，上海一家政府支持的企业已研发出能制造最主流芯片的浸没式深紫外光刻设备。 为实现半导体及制造设备自给自足，中国在美国及其盟友日益严格的出口管制下加速技术突破。若实现DUV设备量产并用于制造依赖ASML高端设备的尖端芯片，将形成双重威胁：一方面冲击ASML主导地位，另一方面削弱英伟达等西方芯片商的客户需求。 目前中国芯片制造商高度依赖ASML设备（2023年前中国是其最大市场），但受美国施压，荷兰自2019年起禁止对华出口EUV光刻机，2…
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