SA-阿斯麦正在研发混合键合设备让贝思半导体更加不安 -
稻草财经 视角 · 独立逻辑线拆解
1. ASML为何切入键合设备:垂直整合的延伸
事实:该公司在2022年12月至2024年11月期间提交了27组键合专利,其中大多数涉及D2W;ASML于2025年第三季度交付了首款后端产品XT:260 i-line封装光刻机
2. 轨道式设计:与传统键合机的根本差异
事实:SuperTrak的规格表显示,穿梭载具的重复定位精度约为10um,远达不到键合所需的50nm贴装精度;三秒的清洗工序配置三个工位,1.2秒的键合工序配置一个工位,因此每个工位都能保持忙碌
3. ASML的潜在优势:对准与颗粒控制
事实:ASML的NXT:2100i单机套刻精度可达0.9nm;将键合后的套刻误差从40-60nm降至4nm以下
4. 尚未解决的四大技术与供应链难题
事实:芯片相对载具的测量误差、运输途中发生的任何偏移,以及键合时载具相对晶圆的定位误差,都必须各自控制在10–20纳米以内;SuperTrak的标准平台洁净度等级为ISO 6,比混合键合所需等级低三个级别
5. HBM推迟与韩国竞争者:Besi的增长逻辑弱化
事实:我们认为HBM在2029年之前不会采用D2W混合键合,即便最终会采用也是如此;HBM混合键合业务最高可占Besi 2028年市场一致预期收入的20%;该设备宣称的贴装精度为0.1微米,与Besi的CHAMEO 8800相当,并自4月以来一直在SK海力士进行评估
6. 竞争格局:Besi的先发优势与ASML的潜在冲击
事实:逻辑领域客户占Besi混合键合客户的一半,约占其已安装键合设备的70%;我们预计ASML的D2W HB设备要到2030年后才会上市,因此对Besi 2026—2029年逻辑领域订单簿的影响应该有限
核心逻辑
SemiAnalysis判断ASML正在开发轨道式D2W混合键合设备,有望凭借对准精度与颗粒控制能力取得优势,并作为垂直整合、捆绑销售光刻机与键合机的延伸;但管理层称相关收入在2030年之后很久才会出现,渠道调查也未发现台湾代工厂或封测厂采用ASML键合设备。因此该判断的成立条件是ASML解决前馈计量、键合接触、工位改造与洁净成本四大难题,且对Besi 2026—2029年订单簿影响有限。
主要风险
- ASML技术方案未经实践验证:专利中的接触方案(夹具弯曲芯粒、分区加热器、红外监测键合波)均未经实践验证,受访行业专家对翘曲控制存疑;前馈计量方案尚无在实际载具上反复测量-运输-再测量的公开数据
- 洁净度与成本风险:SuperTrak平台洁净等级ISO 6比混合键合所需ISO 3/Class 1低三级,工位间颗粒控制和维持洁净微环境的成本可能显著影响设备良率与性价比
- 供应链协同不确定性:轨道式工位模块目前无厂商销售,ASML需与AMAT、EVG、Lam等既有厂商及零部件供应商合作开发,存在协同落地不确定性
- 键合特有污染物处理待验证:键合设备中的污染物(芯片边缘切割碎屑、落在新活化亲水表面的颗粒)与扫描仪不同,ASML如何处理尚待后续专利文件披露
展开完整深度解读(报告综述·更多利好与风险)
报告综述
本文为SemiAnalysis于2026年10月15日发布的研究(作者Sherry Zhang、Gerald Wong、Steven Lee、Dylan Patel)。核心判断是:ASML虽未官方宣布,但其2022年12月至2024年11月间提交27组键合专利、The Elec 3月报道其与Prodrive Technologies和VDL ETG启动架构设计、以及自身2024年投资者日路线图,均指向其正在开发芯粒对晶圆(D2W)混合键合设备。该设备采用轨道式设计,独立穿梭载具可提升工位利用率、减少重复配置并支持异质集成。研报认为先进逻辑芯片将率先采用,设备量产最早在2030年。对Besi而言,逻辑约占其已安装键合设备70%(SA估算)且集中于台积电与英特尔,而HBM采用D2W预计推迟至2029年或更晚、韩国竞争者(韩华SHB2 Nano)已在SK海力士评估,增长前景进一步转弱。
其他风险
- 信息有限导致时点不确定:管理层仅表示相关收入在2030年之后很久,可得信息很少使设备推出时点难以判断
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